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立式真空清洗爐廠家

產品屬性

  • 所屬分類:立式真空清洗爐
  • 產品編號:1573195545
  • 瀏覽次數:0
  • 發布日期:2024-01-05
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

立式真空清洗爐廠家


立式真空清洗爐適用于化纖行業的洗滌、錦綸和丙綸生產用的組件、噴絲板、過濾芯等清潔處理,也適用塑料擠出行業的模具清潔之用。

該設備利用高分子聚合物在300°C左右時可熔融,高于300°C隔絕空氣可裂解焦化,高于400°C在有少量空氣并有一定真空度的環境中可完全氧化的特性,先將粘有高分子污物的工件加熱到300°C(根據工藝要求擬定),使工件上數量較多的高分子聚合物溶化后流淌到爐膛下部的收集容器內,然后再將爐溫升到400°C-500°C,同時打開真空泵,并通入少量新鮮空氣,使剩余的聚合物充分氧化,生成的二氧化碳,經水噴淋后通過環式真空泵抽吸,和水一起排出爐外。

立式真空清洗爐廠家

產品特點

立式真空清洗爐均采用不銹鋼電熱管真空爐膛內直接加熱,密封部位均采用密封圈,不需水冷卻保護,所以,真空清洗爐加熱功率小,熱效率高,升溫速度快,溫度均勻性好,加熱器檢查維修方便,并且,克服了由于水冷卻導致的爐內溫度均勻性差,局部清洗效果不好等缺陷。真空清洗爐具有完整的自動化工作性能,只要對程序溫度控制儀輸入擬定的工作程序,設備即能進行自動化清洗工作,中途無需人工干預,并具有超溫、缺相和斷水或低水壓報警功能。


工作原理

立式真空清洗爐的原理主要是通過抽取爐腔內部的空氣,形成高真空環境。在高真空環境下,雜質和污垢會因為缺乏粒子間的氣體分子作用力而容易脫落,提供了清潔和烘干的條件。同時,高真空環境還能有效地防止氧化反應的發生,保護產品的表面光潔度。


應用領域

立式真空清洗爐的應用非常廣泛。例如,在電子行業中,該設備常用于清洗半導體芯片和集成電路等微細雜質的清除。在光學鏡片制造工藝中,真空清洗爐可以去除鏡片表面的灰塵和指紋,提高鏡片的透光性和成像質量。此外,在航空航天、汽車等制造領域中,也可以利用真空清洗爐清洗和烘干各類零部件,以確保產品質量和性能。


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